先或者超越，只能说先达到够用的程度再说！
其实，一开始我们的光刻机起步并不晚，甚至还很早。
在六十年代的时候，科学院就研制出了，我们第一台国产的光刻机。那时候，只有种花和鹰酱，两个国参与了这一制造过程。
七十年代就生产出了接触式光刻机，80年我们的光刻机精度，就达到了3微米，基本一直贴近国际主流水平。
后来的倭国、寒国，在那时连这个想法都没有呢。未来独霸天下的阿斯麦，更是没影的事。
到了八十年代中期，就更了不得了，自动接近式光刻机研制成功了，分步投影式光刻机生产出来了，光刻光源甚至已经达到了193纳米。
这一技术，仅比国际上最领先的，落后了四五年的时间，更是遥遥领先着阿斯麦。可以说，当时在光刻机技术上，咱们谁也不怵！
然而，很可惜，光刻机的研发，也就到此为止了。
所有人都以为我们的、光刻机的辉煌征途刚刚开始，但谁也没想到，在那之后就开始陷入长达二十多年的落寞。
断了光刻机的自主研发之路，原因只有一个字:“穷”！