控制机柜、真空泵系统、冷却水循环系统、减振台座、操作控制台等，全套系统重约10吨。
算上这些配套设备，一台ebl光刻机就不止十平方米了，通常需要至少50平方米的，要求室内净高达到4米，且对地面稳定性有较高要求，重新打了地基，免得工作时影响了工作精度。
当然，哪怕精度是相对性的，理论上跟地面震动没有影响，但纳米级设备要求就比较高。
除了避震要求外，还要求恒温：20±1c
-相对湿度：45±5
洁净度：css 100-1000级
以及要求良好的电磁防护。
大概一个小时后，
郝强也没有发现什么大问题，但还是有些担忧，让组长开始测试。
随着组长的指令，测试正式开始。
实验室内的气氛瞬间变得紧张而激动，所有人都屏息凝视，目光紧盯着设备的反应。
随着启动按钮的按下，设备发出轻微的嗡鸣声，逐渐运转起来，显示屏上开始闪烁着数据。
“设备正常运转！”组长略有兴奋，说明路子是对的。
当然，要测试自然要拿实物硅片进行。
实验室里已经准备好了许多片涂上光刻胶的硅片，ebl光刻机与传统的光刻机不同，它无需掩膜版,直接写入。
光刻机的工作原理，简单来说，就是把硅片当成一块黑板，然后在黑板上画电路图。
而紫外线或电子束（ebl光刻机）就是粉笔，粉笔的粗细就是线条的粗细。
由于黑板大小固定，要想画更多的图，自然是粉笔越细越好，但相应地对技术要求更高，就越难画。
黑板上的一层膜，对应光刻胶。
画完图后，将硅片浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用专业的角度来说，
ebl光刻机与紫光光刻机有一些不同。
首先，在机器顶部的电子枪区域，场发射电子源开始工作。
在强大的电场作用下，尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。
这些高速电子束就像一支训练有素的微观部队，整齐划