雕刻东西，花样要精细，刀尖就得锋利，但是要如何把193n的光波再“磨”细呢？大半个半导体业界都参与进来，分成两队人马跃跃欲试：
n康等公司主张用在前代技术的基础上，采用157n的 f2激光，走稳健道路。
而新生的euv llc联盟则押注更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。
但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。
这时候tjd一个叫做林本坚的鬼才工程师出现了：
降低光的波长，光源出发是根本方法，但高中学生都知道，水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，原有的193n激光经过折射，不就直接越过了157n的天堑，降低到132n了吗！
林本坚拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍米国、德国、东瀛等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。甚至有某公司高层给tjdo蒋尚义捎了句狠话，让林本坚不要再搅局了。
毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。
于是，n康选择了在157n上一条道走到黑，却没意识到背后有位虎视眈眈的搅局者。
当时尚是小角色的a斯麦决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术则更有可能以小博大。
于是就和林本坚一拍即合，仅用一年时间，就在2004年就拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下ib和tjd等大客户的订单。
n康晚了半步，很快也就亮出了干式微影157n技术的成品，但毕竟被a斯麦抢了头阵，更何况波长还略落后于对手。
等到一年后，n康又完成了对浸润式技术的追赶，可是客户却已经不承认“老情人”，毕竟gkj又不是小朋友玩具，更替要钱，学习更要成本。
其实早于1997年，在米国政府一手干预下，当n康被euv llc排挤在外时，就已经注定了如今gkj市场一家独大的结局。
当