光刻机经历多个发展节点。
目前。
最先进的浸润式光刻机，已经达到28纳米精度。
协议自然是针对浸润式光刻机。
问题来了！
华夏转让的是技术。
拿到技术研发、生产，这是需要一个过程的，时间大约在半年左右。
但！
谢武负责浸润式光刻机研发。
有陈皓的成熟技术，三四个月就能迭代。
因此，北美拿到28纳米技术，还没等研发、制造出来，华夏已完成14纳米研发。
短时间即可投产！
这时候。
华夏再把14纳米技术给北美。
北美是不是又要研发？
等他们研发成功，7纳米的又出来了。
诚然，他们跟华夏技术差距，不再像以前那么夸张了，但终究还是慢了一代。
这不是最致命的。
浸润式光刻机精度极限是7纳米。
那么……
华夏能给北美的，最终止步于7纳米。
别忘了！
谢武对浸润式光刻机，进一步挖掘精度的同时，杜阳和顾经纶一直都在，进行euv光刻机研发。
到目前为止，都已经快有一年了，离成功不远了吧？
euv光刻机。
全称极紫外光刻机。
跟浸润式光刻机有技术重叠，但本质上也有非常大的区别。
至少。
它不能算浸润式光刻机吧？
当然也不属于华夏跟北美，签订的浸润式光刻机协议。
一旦研发成功，只有浸润式光刻机技术，北美又如何跟华夏抗衡？
随着euv研发推进，最终甚至达到1纳米，双方依旧天渊之别！
至于其他领域技术转让……
比如芯片设计。
给你又怎样？
我用euv光刻机造芯片，你没有同级别的光刻机，有芯片设计也没用啊。
最要命的还是……
手术机器人、3d打印等技术！
新一代产品不断